HMDS涂布機(jī)，hmds涂膠機(jī)工藝原理

HMDS涂布機(jī)，hmds涂膠機(jī)工藝原理

HMDS涂布機(jī)，hmds涂膠機(jī)用途：
   在 MEMS 產(chǎn)品的研發(fā)過(guò)程中，在 PZ 層去膠之后發(fā)現(xiàn)有嚴(yán)重的側(cè)向腐蝕現(xiàn)象。這種現(xiàn)象可以直接從顯微鏡目檢中檢查出，而且在整個(gè)晶圓的表面呈現(xiàn)無(wú)規(guī)則的分布。這種過(guò)腐蝕現(xiàn)象會(huì)嚴(yán)重的影響到 MEMS 產(chǎn)品的性能。然兒涂膠前處理的HMDS 涂布只會(huì)影響到光刻膠與襯底之間的黏附性，對(duì)其他工藝參數(shù)的影響十分微小，這對(duì)于改善光刻膠與襯底之間的黏附性問(wèn)題，是十分有利的。
HMDS涂布機(jī)，hmds涂膠機(jī)原理：

在提升光刻膠的黏附性工藝中，實(shí)際上HMDS(六甲基二硅烷)并不是作為粘結(jié)劑所產(chǎn)生作用的，而是HMDS 改變了 SiO2 的界面結(jié)構(gòu)，從而使晶圓的性質(zhì)由親水性表面轉(zhuǎn)變?yōu)槭杷员砻妗?nbsp;

   光刻膠與晶圓表面之間的黏附性問(wèn)題，除了受到分子鍵合的影響，還受到其他重要因素的影響。如表面的水分就是其中的主要因素，會(huì)減少黏附性，從而造成掀膠和側(cè)向腐蝕。HMDS 涂布是涂膠前對(duì)硅片表面進(jìn)行處理，可以增加硅片表面水分子的接觸角，使硅片表面從親水性轉(zhuǎn)化為疏水性。
  HMDS 一般采用蒸汽涂布的方式。簡(jiǎn)單評(píng)價(jià)晶圓的表面黏附性好壞，可以將晶圓進(jìn)行 HMDS 涂布，然后在晶圓的表面滴一滴水珠，然后通過(guò)測(cè)量水珠的接觸角，來(lái)進(jìn)行晶圓表面黏附性好壞的判斷。當(dāng)接觸角角度越大，說(shuō)明黏附性越好，也就意味著疏水性越強(qiáng)。
HMDS涂膠機(jī)技術(shù)指標(biāo)：