NH3氨氣烘箱 氨氣真空系統(tǒng) 氨氣圖形反轉(zhuǎn)爐

NH3氨氣烘箱 氨氣真空系統(tǒng) 氨氣圖形反轉(zhuǎn)爐用途：

   在光刻膠的處理過程中，調(diào)整其極性對(duì)于實(shí)現(xiàn)精確的圖形轉(zhuǎn)移至關(guān)重要。氨氣作為一種有效的極性調(diào)節(jié)劑，在光刻膠中發(fā)揮著關(guān)鍵作用。使得光刻膠在半導(dǎo)體、光學(xué)器件及生物芯片等制造領(lǐng)域能夠更精準(zhǔn)地適應(yīng)圖形轉(zhuǎn)移的需求，提升產(chǎn)品的制造質(zhì)量和精度。氨氣通過其化學(xué)性質(zhì)，在光刻膠中發(fā)揮著調(diào)整極性、優(yōu)化圖形轉(zhuǎn)移效果的重要作用，是微細(xì)制造領(lǐng)域的關(guān)鍵材料之一。

   氨氣真空烘烤系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于新材料（如超材料、表面工程）、前沿物理研究（如超導(dǎo)、量子）、仿生（功能性表面）、光子（微納光學(xué)、光波導(dǎo)、光子晶體）、生物（DNA測(cè)試、納流控）、微電子等研究領(lǐng)域，以及3D結(jié)構(gòu)光器件、光子芯片、高功率芯片等加工領(lǐng)域。

NH3氨氣烘箱 氨氣真空系統(tǒng) 氨氣圖形反轉(zhuǎn)爐技術(shù)性能：

容量：2-12寸晶圓或方片兼容，可定制

溫度范圍： RT-200℃

真空度： ≤100pa

控制儀表： 人機(jī)界面+PLC

氣路控制： 多氣路控制

真空泵： 高品質(zhì)渦旋無油泵

保護(hù)裝置： NH3監(jiān)測(cè)保護(hù)，超溫保護(hù)，漏電保護(hù)等

NH3氨氣烘箱 氨氣圖形反轉(zhuǎn)爐特點(diǎn)：

具有重復(fù)性好

更加穩(wěn)定

環(huán)保，對(duì)人體無害的顯著優(yōu)點(diǎn)

也可用于其它硅烷沉積工藝的處理